Status of high-lndex materials for generation-three 193nm lmmersion lithography
書誌事項
- タイトル別名
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- Status of high lndex materials for generation three 193nm lmmersion lithography
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収録刊行物
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- Journal of photopolymer science and technology
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Journal of photopolymer science and technology 20 (5), 643-650, 2007
Chiba : The Society of Photopolymer Science and Technology
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1523669554656237440
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- NII論文ID
- 40015602542
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- NII書誌ID
- AA11576862
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- ISSN
- 09149244
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- NDL書誌ID
- 8918833
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- 本文言語コード
- en
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- NDL 雑誌分類
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- ZP48(科学技術--印写工学)
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- データソース種別
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- NDL
- CiNii Articles