MOCVD法による化合物半導体エピタキシャル成長(4)
書誌事項
- タイトル別名
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- MOCVDホウ ニ ヨル カゴウブツ ハンドウタイ エピタキシャル セイチョウ(4)
- Epitaxial Growth of Compound Semiconductors Using MOCVD(4)
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収録刊行物
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- 住友化学 : 技術誌
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住友化学 : 技術誌 15-24, 2015
東京 : 住友化学
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1523669555763142016
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- NII論文ID
- 40020565852
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- NII書誌ID
- AN00125568
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- ISSN
- 03871312
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- NDL書誌ID
- 026690525
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- 本文言語コード
- ja
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- NDL 雑誌分類
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- ZP1(科学技術--化学・化学工業)
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- データソース種別
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- NDL
- CiNii Articles