極薄シリコン酸化膜の新しい作製手法の開発--超高密度記録素子作製に向けた大きな一歩
書誌事項
- タイトル別名
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- ゴクウス シリコン サンカ マク ノ アタラシイ サクセイ シュホウ ノ カイハツ チョウコウミツド キロク ソシ サクセイ ニ ムケタ オオキナ イッポ
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抄録
コレクション : 国立国会図書館デジタルコレクション > 電子書籍・電子雑誌 > 独立行政法人
収録刊行物
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- 電総研ニュース = ETL news / 工業技術院電子技術総合研究所 編
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電総研ニュース = ETL news / 工業技術院電子技術総合研究所 編 (600), 10-12, 2000-01
つくば : 工業技術院電子技術総合研究所
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1523951030249591936
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- NII論文ID
- 40002559698
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- NII書誌ID
- AN00354984
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- ISSN
- 0011846X
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- NDL書誌ID
- 4963888
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- 本文言語コード
- ja
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- NDL 雑誌分類
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- ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
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- データソース種別
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- NDL
- CiNii Articles