溶液プロセスによる酸化物半導体TFTの大気圧形成技術
Bibliographic Information
- Other Title
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- ヨウエキ プロセス ニ ヨル サンカブツ ハンドウタイ TFT ノ タイキアツ ケイセイ ギジュツ
- Solution-based Atmospheric Pressure Process for Oxide Thin-Film Transistors
- 特集 酸化物半導体TFT最前線
- トクシュウ サンカブツ ハンドウタイ TFT サイゼンセン
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Journal
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- ディスプレイ = Monthly display : FPD・照明・太陽電池の総合技術情報誌 / 月刊ディスプレイ編集委員会 編
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ディスプレイ = Monthly display : FPD・照明・太陽電池の総合技術情報誌 / 月刊ディスプレイ編集委員会 編 19 (10), 17-22, 2013-10
東京 : テクノタイムズ社
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Details 詳細情報について
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- CRID
- 1523951030700343040
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- NII Article ID
- 40019796222
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- NII Book ID
- AA11422144
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- ISSN
- 13413961
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- NDL BIB ID
- 024863130
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- Text Lang
- ja
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- NDL Source Classification
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- ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
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- Data Source
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- NDL
- CiNii Articles