皮膚の過敏症及び炎症軽減におけるPAR-2へのアプローチ
書誌事項
- タイトル別名
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- ヒフ ノ カビンショウ オヨビ エンショウ ケイゲン ニ オケル PAR-2 エ ノ アプローチ
- A PAR-2 approach to relief sensitive skin
- 特集 新たな化粧品原料の開発(PART 2)
- トクシュウ アラタ ナ ケショウヒン ゲンリョウ ノ カイハツ(PART 2)
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抄録
コレクション : 国立国会図書館デジタルコレクション > デジタル化資料 > 雑誌
収録刊行物
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- Fragrance journal : research & development for cosmetics, toiletries & allied industries = フレグランスジャーナル : 香粧品科学研究開発専門誌
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Fragrance journal : research & development for cosmetics, toiletries & allied industries = フレグランスジャーナル : 香粧品科学研究開発専門誌 41 (5), 82-85, 2013-05
東京 : フレグランスジャーナル社
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1524232505210773760
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- NII論文ID
- 40019690842
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- NII書誌ID
- AN00069911
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- ISSN
- 02889803
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- NDL書誌ID
- 024671945
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- 本文言語コード
- ja
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- NDL 雑誌分類
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- ZP25(科学技術--化学・化学工業--油脂類)
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- データソース種別
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- NDL
- CiNii Articles