ゾルゲル法によるPZT薄膜のUHF-SHF帯における超音波特性
書誌事項
- タイトル別名
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- Ultrasonic Properties of PZT Thin Films in UHF-SHF Ranges
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説明
本報告では, ゾルゲル法によって最も作製し易い0.22-2.65μm厚PZT薄膜の超音波的性質について検討した. この膜厚のPZTで超音波デバイスを構成した場合, その共振周波数はUHFからSHF帯に及ぶ. その様な超高周波域で高精度の特性測定を行うには, 浮遊容量や寄生インダクタンスの影響低減が重要である. 測定方法並びに被測定デバイスの構造を検討し, UHF-SHF帯におけるPZT薄膜の電気的特性に対する測定法を確立した. そして, ゾルゲルPZT薄膜はUHF-SHF帯においても極めて大きな圧電性を有し, しかも誘電的特性も比較的良好であることが判った. 厚み縦振動トランスジューサを構築したところ, 共振周波数1.75GHzにおいて変換損失3.8dB以下, 共振周波数5.26GHzにおいて変換損失11dBを得た. さらに, SAWデバイスや薄膜バルク波共振子を試作し, その基本的特性を得た.
収録刊行物
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- 電子情報通信学会技術研究報告. EMD, 機構デバイス
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電子情報通信学会技術研究報告. EMD, 機構デバイス 97 (149), 39-44, 1997-07-04
一般社団法人電子情報通信学会
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キーワード
詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1570009752433771776
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- NII論文ID
- 110003293096
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- NII書誌ID
- AN10383978
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- 本文言語コード
- ja
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- データソース種別
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- CiNii Articles