Collimated Sputtering of TiN/Ti Liners into Sub-half Micron High Aspect Ratio Contacts/Lines

収録刊行物

被引用文献 (1)*注記

もっと見る

詳細情報 詳細情報について

  • CRID
    1570291224115466368
  • NII論文ID
    10000013527
  • データソース種別
    • CiNii Articles

問題の指摘

ページトップへ