(Invited) Mo-gate MOS Metallization System : A-4: DEVICE TECHNOLOGY (1)

  • YANAGAWA Fumihiko
    Musashino Electrical Communication Laboratory Nippon Telegraph and Telephone Public Corporation
  • AMAZAWA Takao
    Musashino Electrical Communication Laboratory Nippon Telegraph and Telephone Public Corporation
  • OIKAWA Hideo
    Musashino Electrical Communication Laboratory Nippon Telegr

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  • CRID
    1570572702488516224
  • NII論文ID
    110003957146
  • NII書誌ID
    AA10457686
  • ISSN
    00214922
  • 本文言語コード
    en
  • データソース種別
    • CiNii Articles

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