高集積DRAM構造の検討

参考文献3件

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タイトル別名
  • A study of memory cell for high density DRAM

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説明

大容量DRAMメモリセルアクティブ領域レイアウトとしてガルウイングレイアウトを採用し、アイソレーション特性を評価した。ウエハでは電気的に極めて厳しい条件でアイソレーションを評価するとCOP起因のアイソレーション特性の問題が発生する。これがCOP周囲のLOCOS酸化膜形成に影響をおよぼすためと推定される。

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キーワード

詳細情報 詳細情報について

  • CRID
    1570572702489172864
  • NII論文ID
    110003309434
  • NII書誌ID
    AN10013254
  • 本文言語コード
    ja
  • データソース種別
    • CiNii Articles

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