High Etching Stability NIL Material
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- SHIMATANI Satoshi
- Tokyo Ohka Kogyo Co., LTD. R&D Departmet
Bibliographic Information
- Other Title
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- 高エッチング耐性ナノインプリント材料
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Journal
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- 高分子
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高分子 61 (9), 685-686, 2012-09-01
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Details 詳細情報について
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- CRID
- 1570854176168238464
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- NII Article ID
- 10031009206
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- NII Book ID
- AN00084926
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- ISSN
- 04541138
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- Text Lang
- ja
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- Data Source
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- CiNii Articles