3段パイプライン方式による250Mバイト/秒のシンクロナスDRAM
書誌事項
- タイトル別名
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- 250Mbyte/sec Synchronous DRAM using a 3-Stage-pipelined Architecture
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説明
電源電圧3.3Vで動作する、512K×18ビット×2バンクのシンクロナスDRAMを開発した。従来のDRAMのアドレスアクセスパスを、カラムスイッチ部、データアウトバッファ部にラッチ回路を設けることにより3段に分割する、3段パイプライン回路技術を使って高速化を達成した。従来のDRAMに対し、リードライトバスやデータアンプ等を追加する必要がないため、面積の増加を最小限に抑えることができた。0.5μmCMOSプロセスを用い、当社の従来のDRAMと全く同じチップサイズ、113.7mm^2で、GTLインターフェイスを使って、250Mバイト, 秒のシンクロナスDRAMを実現した。
収録刊行物
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- 電子情報通信学会技術研究報告. SDM, シリコン材料・デバイス
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電子情報通信学会技術研究報告. SDM, シリコン材料・デバイス 93 (349), 15-22, 1993-11-26
一般社団法人電子情報通信学会
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キーワード
詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1573387452257883264
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- NII論文ID
- 110003309954
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- NII書誌ID
- AN10013254
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- 本文言語コード
- ja
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- データソース種別
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- CiNii Articles