BSIM3v3による高耐圧デバイスのモデル化とパラメータ抽出技法
書誌事項
- タイトル別名
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- High Voltage MOS Device Modeling with BSIM3v3 and its Parameter Extraction Technique
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説明
本論文はBSIM3v3 SPICEモデルによる、高耐圧MOSデバイスのモデル技術について報告する。標準のSPICEモデルは高耐圧MOSデバイスの電圧依存を持つR_d、R_sに対して高精度のモデルを提供しておらず、電圧-電流特性のシミュレーションと実測値との間に大きな差異を生じる。我々はオリジナルBSIM3v3のパラメータの一部に対して本来とは異なる物理的な意味合いを設定し、R_d、R_sの電圧依存を表現する技法を考案した。本技法により得たパラメータによる、高耐圧MOSデバイスの電圧-電流特性のシミュレーションと実測値とは非常に良く一致する。提案モデル技法と高耐圧MOSデバイスの動作原理との関係についても検討を行った。
収録刊行物
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- 電子情報通信学会技術研究報告. ED, 電子デバイス
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電子情報通信学会技術研究報告. ED, 電子デバイス 98 (348), 79-86, 1998-10-23
一般社団法人電子情報通信学会
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1573668927146969216
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- NII論文ID
- 110003200594
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- NII書誌ID
- AN10012954
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- 本文言語コード
- ja
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- データソース種別
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- CiNii Articles