A Review of the Chemical Reaction Mechanism and Kinetics of Hydrofluorite Acid Etching of Silicon Dioxide for Surface Micromachining Applications

書誌事項

公開日
1993

収録刊行物

被引用文献 (2)*注記

もっと見る

詳細情報 詳細情報について

  • CRID
    1573950401435456512
  • NII論文ID
    80007231653
  • データソース種別
    • CiNii Articles

問題の指摘

ページトップへ