ハーフトーン位相差法における輪帯照明条件の効果

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タイトル別名
  • Characteristics of Annular Illumination on Half Tone Phase Shift Mask

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説明

超解像技術において、ハーフトーン位相差法とマスク作製が容易であることから実用化が始まっている。遮光シフタの透過率は、シミュレーションによるセカンドピーク等の評価結果から、最適値を設定した。しかし、0.3umL, Sのパターン形成においては、通常露光法とハーフトーンマスクでは、実用解像に必要な焦点深度が不足する。輪帯照明法とハーフトークマスクの組み合わせは、輪帯照明条件の最適化の結果、焦点深度の拡大とセカンドピークの抑制効果により、ディフォーカス0.75umにおいても、i線が十分な実用解像力を得た。これらのシミュレーション結果に基づき、i線プロセスでのパターン形成を行い、0.3umL/Sにおいて、焦点深度約2.5umを確認した。

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詳細情報 詳細情報について

  • CRID
    1574231877181826176
  • NII論文ID
    110003310227
  • NII書誌ID
    AN10013254
  • 本文言語コード
    ja
  • データソース種別
    • CiNii Articles

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