クロム微小ドットの酸化シリコン基板からのはく離発生強度評価
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- 平方 寛之
- 京都大学
Bibliographic Information
- Title
- クロム微小ドットの酸化シリコン基板からのはく離発生強度評価
- Author
- 松本祥平, 平方寛之, 北村隆行
Journal
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- 日本学術会議第48回材料研究連合講演会講演論文集
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日本学術会議第48回材料研究連合講演会講演論文集 356-357, 2004
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Details 詳細情報について
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- CRID
- 1010282256867826692
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- Article Type
- journal article
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- Data Source
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- KAKEN