Plasma etching of high-κ and metal gate materials

書誌事項

タイトル
Plasma etching of high-κ and metal gate materials
著者
K.Nakamura, T.Kitagawa, K.Osari, K.Takahashi, K.Ono

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詳細情報 詳細情報について

  • CRID
    1010282256909725581
  • 資料種別
    journal article
  • データソース種別
    • KAKEN

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