時空間的電場振動中のナノ粒子成長に関する研究

研究課題情報

体系的番号
JP19K03809
助成事業
科学研究費助成事業
資金配分機関情報
日本学術振興会(JSPS)
研究課題/領域番号
19K03809
研究種目
基盤研究(C)
配分区分
  • 基金
審査区分/研究分野
  • 小区分14030:プラズマ応用科学関連
研究機関
  • 九州大学
研究期間 (年度)
2019-04-01 〜 2022-03-31
研究課題ステータス
完了
配分額*注記
4,420,000 円 (直接経費: 3,400,000 円 間接経費: 1,020,000 円)

研究概要

私達が日常的に使用しているPC、スマートフォンやIoTデバイスの中の半導体創成工程の多くをプラズマプロセスが占めている。そのプラズマプロセスにおける重要技術の一つは、ナノ粒子サイズの制御である。申請者らは、プラズマに電場揺らぎを印加することで、通常の放電時と比べ、サイズ及びサイズ分散も小さいナノ粒子を製成できることを見出した。しかし、この現象のメカニズムの詳細は明らかになっていない。本研究では、プラズマ中の電場構造に注目し、ナノ粒子量、プラズマ密度の時空間構造を同時計測行うことで、上記メカニズム解明を行う。これにより半導体プラズマプロセス技術の向上や微粒子プラズマ物理への貢献に繋がる。

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