現在、プラズマプロセスは大規模集積回路製造前工程の70%以上に使用されており、現代社会を支える基幹科学技術として発展している。プロセスプラズマ中のイオン・ラジカルの密度と運動エネルギーを制御することで、集積回路の微細化及び3次元高層化が達成されている。今後は、エッチングや薄膜堆積の精度がnmに突入し、原子レベルでのプロセス制御が強く求められる段階になっている。この要求に応えるには、反応に寄与するイオン・ラジカルを精度よく選択生成する新規放電手法の開発及びその制御機構の解明を行う。
