放電手法制御によるプラズマプロセス精密制御機構の解明とその応用
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- 鎌滝 晋礼
- 研究代表者
- 九州大学
研究課題情報
- 体系的番号
- JP23K03368
- 助成事業
- 科学研究費助成事業
- 資金配分機関情報
- 日本学術振興会(JSPS)
- 研究課題/領域番号
- 23K03368
- 研究種目
- 基盤研究(C)
- 配分区分
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- 基金
- 審査区分/研究分野
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- 小区分14030:プラズマ応用科学関連
- 研究機関
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- 九州大学
- 研究期間 (年度)
- 2023-04-01 〜 2026-03-31
- 研究課題ステータス
- 交付
- 配分額*注記
- 4,680,000 円 (直接経費: 3,600,000 円 間接経費: 1,080,000 円)
研究概要
現在、プラズマプロセスは大規模集積回路製造前工程の70%以上に使用されており、現代社会を支える基幹科学技術として発展している。プロセスプラズマ中のイオン・ラジカルの密度と運動エネルギーを制御することで、集積回路の微細化及び3次元高層化が達成されている。今後は、エッチングや薄膜堆積の精度がnmに突入し、原子レベルでのプロセス制御が強く求められる段階になっている。この要求に応えるには、反応に寄与するイオン・ラジカルを精度よく選択生成する新規放電手法の開発及びその制御機構の解明を行う。
