Rare-earth thick film magnets with in-plane anisotropy prepared by multi-layers and the application to miniaturized devices

About this project

Japan Grant Number
JP19H02173
Funding Program
Grants-in-Aid for Scientific Research
Funding organization
Japan Society for the Promotion of Science
Project/Area Number
19H02173
Research Category
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
Allocation Type
  • Single-year Grants
Review Section / Research Field
  • Basic Section 21050:Electric and electronic materials-related
Research Institution
  • Nagasaki University
Project Period (FY)
2019-04-01 〜 2023-03-31
Project Status
Completed
Budget Amount*help
17,810,000 Yen (Direct Cost: 13,700,000 Yen Indirect Cost: 4,110,000 Yen)

Research Abstract

環境・エネルギー問題の解決に貢献する「永久磁石」の小型電子デバイスへの搭載が熱望される中,「Si基板への永久磁石の搭載やその小型・高性能化」は課題を抱えている。研究代表者は,金属基板上に,独自の「高速・成膜技術(高速PLD法)」を用いたサブミリ厚の「Nd-Fe-B系厚膜磁石」を作製し,次世代デバイスを発信してきた。 本研究では,新たな発想のもと,Si基板上に磁石膜と非磁性膜との積層構造を構築した材料作製(主担当:中野)を進め,その特性評価や考察(主担当:中野,副担当:福永・柳井)および微細構造観察(主担当:板倉)を通じて新規な厚膜磁石を開発すると共に,デバイス応用(主担当:進士)に取り組む。

Related Articles

See more

Related Data

See more

Related Books

See more

Related Dissertations

See more

Related Projects

See more

Related Products

See more

Details 詳細情報について

Back to top