多周期積層による面内異方性制御した希土類系厚膜磁石の超小型デバイス応用
研究課題情報
- 体系的番号
- JP19H02173
- 助成事業
- 科学研究費助成事業
- 資金配分機関情報
- 日本学術振興会(JSPS)
- 研究課題/領域番号
- 19H02173
- 研究種目
- 基盤研究(B)
- 配分区分
-
- 補助金
- 審査区分/研究分野
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- 小区分21050:電気電子材料工学関連
- 研究機関
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- 長崎大学
- 研究期間 (年度)
- 2019-04-01 〜 2023-03-31
- 研究課題ステータス
- 完了
- 配分額*注記
- 17,810,000 円 (直接経費: 13,700,000 円 間接経費: 4,110,000 円)
研究概要
環境・エネルギー問題の解決に貢献する「永久磁石」の小型電子デバイスへの搭載が熱望される中，「Si基板への永久磁石の搭載やその小型・高性能化」は課題を抱えている。研究代表者は，金属基板上に，独自の「高速・成膜技術（高速PLD法）」を用いたサブミリ厚の「Nd-Fe-B系厚膜磁石」を作製し，次世代デバイスを発信してきた。 本研究では，新たな発想のもと，Si基板上に磁石膜と非磁性膜との積層構造を構築した材料作製（主担当：中野）を進め，その特性評価や考察（主担当：中野，副担当：福永・柳井）および微細構造観察（主担当：板倉）を通じて新規な厚膜磁石を開発すると共に，デバイス応用（主担当：進士）に取り組む。