時空間マッピング解析に基づく高分子ネットワーク系の階層的不均一性と応力分布
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- 春藤 淳臣
- 研究代表者
- 九州大学
研究課題情報
- 体系的番号
- JP19H02780 (JGN)
- 助成事業
- 科学研究費助成事業
- 資金配分機関情報
- 日本学術振興会(JSPS)
科研費情報
- 研究課題/領域番号
- 19H02780
- 研究種目
- 基盤研究(B)
- 配分区分
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- 補助金
- 審査区分/研究分野
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- 小区分35020:高分子材料関連
- 研究機関
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- 九州大学
- 研究期間 (年度)
- 2019-04-01 〜 2022-03-31
- 研究課題ステータス
- 完了
- 配分額*注記
- 17,550,000 円 (直接経費: 13,500,000 円 間接経費: 4,050,000 円)
研究概要
本研究では、(1) 高分子ネットワークの形成・固化過程における不均一性と応力分布の関係、および(2) 応力分布とタフネス性・寿命との関係を正確に理解し、力学物性が精密に制御された材料の設計原理・指針を創出することを目的とした。そのアプローチとして、(1) 量子ドットをプローブとした時空間マッピング解析に基づく様々な時空間スケールにおける不均一性の可視化、および(2) メカノクロミズム分子を用いた応力分布の可視化を提案した。
