金属の電解析出における水素発生反応を制御した次世代型機能性表面処理膜の開発
研究課題情報
- 体系的番号
- JP24K01217
- 助成事業
- 科学研究費助成事業
- 資金配分機関情報
- 日本学術振興会(JSPS)
- 研究課題/領域番号
- 24K01217
- 研究種目
- 基盤研究(B)
- 配分区分
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- 基金
- 審査区分/研究分野
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- 小区分26050:材料加工および組織制御関連
- 研究機関
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- 九州大学
- 研究期間 (年度)
- 2024-04-01 〜 2027-03-31
- 研究課題ステータス
- 交付
- 配分額*注記
- 18,460,000 円 (直接経費: 14,200,000 円 間接経費: 4,260,000 円)
研究概要
①Zn－活性金属水酸化物膜，Ni－Ni(OH)2,Ni－活性金属水酸化物膜において，電解方法，電析条件，添加剤によりH2発生サイトを制御して水酸化物の分布を設計する手法を確立する)。 ②Zn－活性金属水酸化物の多層膜，均一組成膜を有する鋼板の耐食性を評価し，犠牲防食能と耐久性に及ぼす皮膜構造の影響を明らかにする。更に耐食性，耐摩耗性，加工性，塗装性，外観等の諸特性の観点から，最適な電析膜の構造を明確にする。 ③Ni－Ni(OH)2, Ni－活性金属水酸化物膜において，アルカリ水電解からのH2発生挙動を解析し，H2発生触媒能と膜構造の関係を明らかにする。