書誌事項
- タイトル別名
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- ミスト オ リヨウ シタ ハクマク サクセイ ギジュツ 「 ミスト CVDホウ 」 ノ カイハツ ト 「 a-IGZO/AlOx コウゾウ オ ユウスル サンカブツ TFT ノ タイキアツ ケイセイ 」
- Development of the Novel Thin Film Fabrication Technology using Mist,“Mist CVD”and Oxide TFT with a-IGZO/AlOx Stack Grown under Atmosphere by the Mist CVD
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収録刊行物
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- 高知工科大学紀要
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高知工科大学紀要 9 (1), 37-53, 2012-07-31
高知工科大学
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1050001201684417920
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- NII論文ID
- 40019424537
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- NII書誌ID
- AA11954573
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- ISSN
- 13484842
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- NDL書誌ID
- 023965608
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- 本文言語コード
- ja
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- 資料種別
- departmental bulletin paper
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- データソース種別
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- IRDB
- NDL
- CiNii Articles