鉄シリサイド系熱電半導体の合成におけるMA処理の湿式/乾式の影響

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タイトル別名
  • Effect of wet or dry process MA method for Synthesis of Iron Silicide Thermoelectoric Semiconductor

収録刊行物

詳細情報 詳細情報について

  • CRID
    1050564287895647232
  • NII論文ID
    120006552755
  • ISSN
    21883688
  • Web Site
    https://sasebo.repo.nii.ac.jp/records/866
  • 本文言語コード
    ja
  • 資料種別
    departmental bulletin paper
  • データソース種別
    • IRDB
    • CiNii Articles

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