鉄シリサイド系熱電半導体の合成におけるMA処理の湿式/乾式の影響
書誌事項
- タイトル別名
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- Effect of wet or dry process MA method for Synthesis of Iron Silicide Thermoelectoric Semiconductor
収録刊行物
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- 佐世保工業高等専門学校研究報告
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佐世保工業高等専門学校研究報告 55 36-41, 2019-01-31
佐世保工業高等専門学校
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1050564287895647232
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- NII論文ID
- 120006552755
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- ISSN
- 21883688
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- 本文言語コード
- ja
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- 資料種別
- departmental bulletin paper
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- データソース種別
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- IRDB
- CiNii Articles