Plasma etching processes for sub-quarter micron devices : proceedings of the international symposium

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書誌事項

タイトル
"Plasma etching processes for sub-quarter micron devices : proceedings of the international symposium"
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editor, G.S. Mathad ; assistant editors, D.W. Hess ... [et al.]
出版者
  • Electrochemical Society
出版年月
  • c2000
書籍サイズ
24 cm

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詳細情報 詳細情報について

  • CRID
    1130000794071318784
  • NII書誌ID
    BA53255819
  • ISBN
    1566772532
  • LCCN
    00101648
  • Web Site
    https://lccn.loc.gov/00101648
  • 本文言語コード
    en
  • 出版国コード
    us
  • タイトル言語コード
    en
  • 出版地
    • Pennington, NJ
  • データソース種別
    • CiNii Books
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