イオン照射による薄膜用基板の表面制御 : 結晶性薄膜作製の低温プロセス化
CiNii
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Bibliographic Information
- Title
- "イオン照射による薄膜用基板の表面制御 : 結晶性薄膜作製の低温プロセス化"
- Statement of Responsibility
- 研究代表者 山内和人
- Publisher
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- 大阪大学工学部
- Publication Year
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- 1997.4
- Book size
- 31 cm
- Other Title
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- イオン ショウシャ ニ ヨル ハクマクヨウ キバン ノ ヒョウメン セイギョ : ケッショウセイ ハクマク サクセイ ノ テイオン プロセスカ
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Notes
[課題番号]: 07555040
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Details 詳細情報について
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- CRID
- 1130000794730988672
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- NII Book ID
- BB27984342
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- Text Lang
- ja
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- Country Code
- ja
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- Title Language Code
- ja
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- Place of Publication
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- [吹田]
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- Data Source
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- CiNii Books
