シリコン熱酸化の界面素過程に関する理論的研究 = Theoretical studies on the basic processes of Si Thermal Oxydation
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書誌事項
- タイトル
- "シリコン熱酸化の界面素過程に関する理論的研究 = Theoretical studies on the basic processes of Si Thermal Oxydation"
- 責任表示
- 白石賢二研究代表者
- 出版者
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- 白石賢二
- 出版年月
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- 2004.5
- 書籍サイズ
- 30cm
- タイトル別名
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- シリコン ネツサンカ ノ カイメン ソカテイ ニ カンスル リロンテキ ケンキュウ
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注記
研究課題番号: 14550020
研究代表者: 白石賢二
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1130000795241927296
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- NII書誌ID
- BA68545470
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- 出版国コード
- ja
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- タイトル言語コード
- ja
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- 出版地
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- [つくば]
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- データソース種別
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- CiNii Books