シリコン熱酸化の界面素過程に関する理論的研究 = Theoretical studies on the basic processes of Si Thermal Oxydation

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書誌事項

タイトル
"シリコン熱酸化の界面素過程に関する理論的研究 = Theoretical studies on the basic processes of Si Thermal Oxydation"
責任表示
白石賢二研究代表者
出版者
  • 白石賢二
出版年月
  • 2004.5
書籍サイズ
30cm
タイトル別名
  • シリコン ネツサンカ ノ カイメン ソカテイ ニ カンスル リロンテキ ケンキュウ

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注記

研究課題番号: 14550020

研究代表者: 白石賢二

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詳細情報 詳細情報について

  • CRID
    1130000795241927296
  • NII書誌ID
    BA68545470
  • 出版国コード
    ja
  • タイトル言語コード
    ja
  • 出版地
    • [つくば]
  • データソース種別
    • CiNii Books
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