静電噴霧沈着法による組成及び膜構造の制御された無機薄膜の製造装置開発
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Bibliographic Information
- Title
- "静電噴霧沈着法による組成及び膜構造の制御された無機薄膜の製造装置開発"
- Statement of Responsibility
- 研究代表者 大谷吉生
- Publisher
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- [大谷吉生]
- Publication Year
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- 2002.3
- Book size
- 30cm
- Other Title
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- セイデン フンム チンチャクホウ ニ ヨル ソセイ オヨビ マク コウゾウ ノ セイギョサレタ ムキ ハクマク ノ セイゾウ ソウチ カイハツ
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Notes
課題番号 : 11555206
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Details 詳細情報について
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- CRID
- 1130000795397373056
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- NII Book ID
- BA61855185
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- Text Lang
- ja
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- Country Code
- ja
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- Title Language Code
- ja
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- Place of Publication
-
- [金沢]
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- Data Source
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- CiNii Books