Metrology, inspection, and process control for microlithography XII : 23-25 February 1998, San Clara, California
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書誌事項
- タイトル
- "Metrology, inspection, and process control for microlithography XII : 23-25 February 1998, San Clara, California"
- 責任表示
- Bhanwar Singh chair/editor ; sponsored and published by SPIE--the International Society for Optical Engineering ; cooperating organizations SEMI-Semiconductor Equipment and Materials International SEMATECH
- 出版者
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- SPIE
- 出版年月
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- c1998
- 書籍サイズ
- 28 cm
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注記
Includes bibliographical references and index
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1130000795891924608
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- NII書誌ID
- BA37526890
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- ISBN
- 0819427772
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- 本文言語コード
- en
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- 出版国コード
- us
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- タイトル言語コード
- en
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- 出版地
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- Bellingham, Wash., USA
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- データソース種別
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- CiNii Books