書誌事項
- タイトル
- "Plasma etching : fundamentals and applications"
- 責任表示
- M. Sugawara ; with contributions from Barry L. Stansfield ... [et al.]
- 出版者
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- Oxford University Press
- 出版年月
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- 1998
- 書籍サイズ
- 24 cm
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注記
Includes bibliographical references and index
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1130000796106119296
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- NII書誌ID
- BA37045123
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- ISBN
- 019856287X
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- LCCN
- 97039210
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- Web Site
- https://lccn.loc.gov/97039210
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- 本文言語コード
- en
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- 出版国コード
- uk
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- タイトル言語コード
- en
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- 出版地
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- Oxford
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- 分類
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- LCC: TK7871.85
- DC21: 621.3815/31
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- 件名
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- LCSH: Semiconductors -- Etching
- LCSH: Plasma etching
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- データソース種別
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- CiNii Books