超音速分子線,ラジカル原子線を用いたシリコン表面プロセスの新方式

CiNii Available at 1 libraries

Bibliographic Information

Title
"超音速分子線,ラジカル原子線を用いたシリコン表面プロセスの新方式"
Statement of Responsibility
研究代表者 並木章
Publisher
  • [九州工業大学]
Publication Year
  • 1998.3
Book size
30cm
Other Title
  • チョウオンソク ブンシセン ラジカル ゲンシセン オ モチイタ シリコン ヒョウメン プロセス ノ シンホウシキ
  • 平成8年度〜平成9年度科学研究費補助金(基盤研究(A)(2))研究成果報告書

Search this Book/Journal

Notes

課題番号: 08555008

研究分担者: 三宅竜也

参考文献

Related Books

See more

Details 詳細情報について

  • CRID
    1130000796403216128
  • NII Book ID
    BA78316356
  • Text Lang
    en
  • Country Code
    ja
  • Title Language Code
    ja
  • Place of Publication
    • [北九州]
  • Data Source
    • CiNii Books
Back to top