Microlithography 1999 : advances in resist technology and processing XVI : 15-17 March 1999, Santa Clara, California
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書誌事項
- タイトル
- "Microlithography 1999 : advances in resist technology and processing XVI : 15-17 March 1999, Santa Clara, California"
- 責任表示
- chair/editor Will Conley ; sponsored and published by SPIE--the International Society for Optical Engineering
- 出版者
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- SPIE
- 出版年月
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- c1999
- 書籍サイズ
- 28 cm
- シリーズ名/番号
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- : set
- タイトル別名
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- Advances in resist technology and processing XVI : microlithography 1999 : 15-17 March 1999, Santa Clara, California
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注記
Includes bibliographical references and index
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1130000797087699072
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- NII書誌ID
- BA45995999
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- ISBN
- 0819431524
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- 本文言語コード
- en
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- 出版国コード
- us
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- タイトル言語コード
- en
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- 出版地
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- Bellingham, Wash., USA
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- データソース種別
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- CiNii Books