高密度ラジカル処理法による基板表面の超親水化と高品質絶縁膜の形成
CiNii
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書誌事項
- タイトル
- "高密度ラジカル処理法による基板表面の超親水化と高品質絶縁膜の形成"
- 責任表示
- 和泉亮研究代表
- 出版者
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- [九州工業大学]
- 出版年月
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- 2007.4
- 書籍サイズ
- 30cm
- タイトル別名
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- コウミツド ラジカル ショリホウ ニヨル キバン ヒョウメン ノ チョウシンスイカ ト コウヒンシツ ゼツエンマク ノ ケイセイ
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注記
課題番号: 17560009
平成17年度～平成18年度科学研究費補助金(基盤研究(C))研究成果報告書
参考文献: 各論末
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1130000798248593792
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- NII書誌ID
- BB06074645
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- 出版国コード
- ja
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- タイトル言語コード
- ja
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- 出版地
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- [北九州]
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- データソース種別
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- CiNii Books
