Photomask and next-generation lithography mask technology XIV : 17-19 April 2007, Yokohama, Japan
書誌事項
- タイトル
- "Photomask and next-generation lithography mask technology XIV : 17-19 April 2007, Yokohama, Japan"
- 責任表示
- Hidehiro Watanabe, editor ; sponsored by PMJ--Photomask Japan, BACUS--the international technical group of SPIE dedicated to the advancement of photomask technology, SPIE--the International Society for Optical Engineering
- 出版者
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- SPIE
- 出版年月
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- c2007
- 書籍サイズ
- 28 cm
- タイトル別名
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- Photomask and next-generation lithography mask technology 14
- Photomask and next-generation lithography mask technology fourteen
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注記
Includes bibliographical references and author index
"Part One of Two Parts"--T.p.
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1130004954719259776
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- NII書誌ID
- BC02886817
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- LCCN
- 2007281758
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- Web Site
- https://lccn.loc.gov/2007281758
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- 本文言語コード
- en
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- 出版国コード
- us
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- タイトル言語コード
- en
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- 出版地
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- Bellingham, Wash.
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- 分類
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- LCC: TK7872.M3
- DC22: 621.3815/31
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- データソース種別
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- CiNii Books