低周波プラズマCVD(TEOS+O[2])によるシリコン酸化膜の低温形成プロセス開発
CiNii
Available at 1 libraries
Bibliographic Information
- Title
- "低周波プラズマCVD(TEOS+O[2])によるシリコン酸化膜の低温形成プロセス開発"
- Statement of Responsibility
- 研究代表者 伊達広行
- Publisher
-
- [北海道大学医療技術短期大学部]
- Publication Year
-
- 1994.3
- Book size
- 26cm
- Other Title
-
- テイシュウハ プラズマ CVD TEOS+O[2] ニヨル シリコン サンカマク ノ テイオン ケイセイ プロセス カイハツ
Search this Book/Journal
Notes
課題番号: 04555018
[2]は下付き文字
- Tweet
Details 詳細情報について
-
- CRID
- 1130282269436074624
-
- NII Book ID
- BB01824227
-
- Country Code
- ja
-
- Title Language Code
- ja
-
- Place of Publication
-
- [札幌]
-
- Data Source
-
- CiNii Books