低周波プラズマCVD(TEOS+O[2])によるシリコン酸化膜の低温形成プロセス開発

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Bibliographic Information

Title
"低周波プラズマCVD(TEOS+O[2])によるシリコン酸化膜の低温形成プロセス開発"
Statement of Responsibility
研究代表者 伊達広行
Publisher
  • [北海道大学医療技術短期大学部]
Publication Year
  • 1994.3
Book size
26cm
Other Title
  • テイシュウハ プラズマ CVD TEOS+O[2] ニヨル シリコン サンカマク ノ テイオン ケイセイ プロセス カイハツ

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Notes

課題番号: 04555018

[2]は下付き文字

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Details 詳細情報について

  • CRID
    1130282269436074624
  • NII Book ID
    BB01824227
  • Country Code
    ja
  • Title Language Code
    ja
  • Place of Publication
    • [札幌]
  • Data Source
    • CiNii Books
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