書誌事項
- タイトル
- "Photomask fabrication technology"
- 責任表示
- Benjamin G. Eynon, Jr., Banqiu Wu
- 出版者
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- McGraw-Hill
- 出版年月
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- c2005
- 書籍サイズ
- 24 cm
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注記
Includes bibliographical references and index
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1130282269728964736
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- NII書誌ID
- BA74317798
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- ISBN
- 0071445633
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- LCCN
- 2005047886
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- Web Site
- https://lccn.loc.gov/2005047886
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- 本文言語コード
- en
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- 出版国コード
- us
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- タイトル言語コード
- en
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- 出版地
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- New York
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- 分類
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- LCC: TK7872.M3
- DC22: 621.3815/31
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- 件名
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- LCSH: Integrated circuits -- Masks
- LCSH: Masks (Electronics)
- LCSH: Microlithography
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- データソース種別
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- CiNii Books