超高周波フォノンによるシリコン中の酸化誘起積層欠陥に関する研究

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Bibliographic Information

Title
"超高周波フォノンによるシリコン中の酸化誘起積層欠陥に関する研究"
Statement of Responsibility
研究代表者 宮里達郎
Publisher
  • [九州工業大学]
Publication Year
  • 1999.3
Book size
30cm
Other Title
  • チョウコウシュウハ フォノン ニヨル シリコンチュウ ノ サンカ ユウキ セキソウ ケッカン ニ カンスル ケンキュウ
  • 平成8年度〜平成10年度科学研究費補助金(基盤研究(B)(2))研究成果報告書

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Notes

課題番号: 08455149

研究分担者: 浅野種正,. 孫勇

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Details 詳細情報について

  • CRID
    1130282269924597120
  • NII Book ID
    BA78322982
  • Text Lang
    en
  • Country Code
    ja
  • Title Language Code
    ja
  • Place of Publication
    • [北九州]
  • Data Source
    • CiNii Books
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