低誘電率・高絶縁耐力プラズマ堆積CxFy膜を用いたSF[6]代替絶縁方式の開発

CiNii Available at 1 libraries

Bibliographic Information

Title
"低誘電率・高絶縁耐力プラズマ堆積CxFy膜を用いたSF[6]代替絶縁方式の開発"
Statement of Responsibility
研究代表者 酒井洋輔
Publisher
  • [北海道大学大学院工学研究科]
Publication Year
  • 2004.3
Book size
30cm
Other Title
  • テイユウデンリツ コウゼツエン タイリョク プラズマ タイセキ CxFyマク オ モチイタ SF[6] ダイタイ ゼツエン ホウシキ ノ カイハツ

Search this Book/Journal

Notes

[6]は下付き文字

課題番号: 13555077

Related Books

See more

Details 詳細情報について

  • CRID
    1130282270563048576
  • NII Book ID
    BA68642943
  • Country Code
    ja
  • Title Language Code
    ja
  • Place of Publication
    • [札幌]
  • Data Source
    • CiNii Books
Back to top