Advances in resist technology and processing VI : 27 February-1 March, 1989, San Jose, California

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書誌事項

タイトル
"Advances in resist technology and processing VI : 27 February-1 March, 1989, San Jose, California"
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Elsa Reichmanis, chair/editor ; sponsored by SPIE--the International Society for Optical Engineering
出版者
  • International Society for Optical Engineering
出版年月
  • c1989
書籍サイズ
28 cm

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Includes bibliographical references and index

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詳細情報 詳細情報について

  • CRID
    1130282270865118592
  • NII書誌ID
    BA1268266X
  • ISBN
    0819401218
  • LCCN
    89060656
  • Web Site
    https://lccn.loc.gov/89060656
  • 本文言語コード
    en
  • 出版国コード
    us
  • タイトル言語コード
    en
  • 出版地
    • Bellingham, Wash., USA
  • データソース種別
    • CiNii Books
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