低周波プラズマCVDによるシリコン窒化膜の室温形成プロセスの開発
CiNii
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書誌事項
- タイトル
- "低周波プラズマCVDによるシリコン窒化膜の室温形成プロセスの開発"
- 責任表示
- 研究代表者 下妻光夫
- 出版者
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- [北海道大学医療技術短期大学部]
- 出版年月
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- 1988.3
- 書籍サイズ
- 26cm
- タイトル別名
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- テイシュウハ プラズマ CVD ニヨル シリコン チッカ マク ノ シツオン ケイセイ プロセス ノ カイハツ
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注記
課題番号: 61850049
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1130282270997836672
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- NII書誌ID
- BB01808581
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- 出版国コード
- ja
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- タイトル言語コード
- ja
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- 出版地
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- [札幌]
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- データソース種別
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- CiNii Books
