書誌事項
- タイトル
- "Glow discharge processes : sputtering and plasma etching"
- 責任表示
- Brian Chapman
- 出版者
-
- Wiley
- 出版年月
-
- c1980
- 書籍サイズ
- 24 cm
この図書・雑誌をさがす
注記
Includes bibliographical references and index
- Tweet
詳細情報 詳細情報について
-
- CRID
- 1130282271090059520
-
- NII書誌ID
- BA00536398
-
- ISBN
- 047107828X
-
- LCCN
- 80017047
-
- Web Site
- https://lccn.loc.gov/80017047
-
- 本文言語コード
- en
-
- 出版国コード
- us
-
- タイトル言語コード
- en
-
- 出版地
-
- New York
-
- 分類
-
- NDC8: 427.5
- LCC: QC702.7.P6
- DC: 537.5/2
-
- 件名
-
- LCSH: Sputtering (Physics)
- LCSH: Glow discharges
- LCSH: Plasma etching
-
- データソース種別
-
- CiNii Books