メタルゲート/高誘電率金属酸化物ゲート絶縁膜スタック構造の真空一貫原子層成長
CiNii
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書誌事項
- タイトル
- "メタルゲート/高誘電率金属酸化物ゲート絶縁膜スタック構造の真空一貫原子層成長"
- 責任表示
- 研究代表者 中島 安理
- 出版者
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- 広島大学ナノデバイス・システム研究センター
- 出版年月
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- 2005.3
- 書籍サイズ
- 30cm
- タイトル別名
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- メタルゲート コウユウデンリツ キンゾク サンカブツ ゲート ゼツエンマク スタック コウゾウ ノ シンクウ イッカン ゲンシソウ セイチョウ
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注記
課題番号: 13450129
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1130282271236505856
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- NII書誌ID
- BA74511258
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- 出版国コード
- ja
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- タイトル言語コード
- ja
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- 出版地
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- 東広島
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- データソース種別
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- CiNii Books