Developments in semiconductor microlithography II : [seminar], April 4-5, 1977, San Jose, California
書誌事項
- タイトル
- "Developments in semiconductor microlithography II : [seminar], April 4-5, 1977, San Jose, California"
- 責任表示
- James W. Giffin, Bruce Ruff, editors ; presented by the Society of Photo-optical Instrumentation Engineers and the Northern California Microphotomask/Masking Working Group, in cooperation with the International Society for Hybrid Microelectronics
- 出版者
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- SPIE
- 出版年月
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- c1977
- 書籍サイズ
- 28 cm
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注記
Includes bibliographical references and indexes
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1130282272110275712
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- NII書誌ID
- BA07255091
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- ISBN
- 0892521279
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- LCCN
- 77154295
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- Web Site
- https://lccn.loc.gov/77154295
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- 本文言語コード
- en
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- 出版国コード
- us
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- タイトル言語コード
- en
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- 出版地
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- Bellingham, Wash.
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- 分類
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- LCC: TK7871.85
- DC: 621.381/74
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- 件名
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- データソース種別
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- CiNii Books