紫外光励起を利用したシリコン基板へのエピタキシャル絶縁膜形成の基礎研究
CiNii
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Bibliographic Information
- Title
- "紫外光励起を利用したシリコン基板へのエピタキシャル絶縁膜形成の基礎研究"
- Statement of Responsibility
- 研究代表者 中村哲郎
- Publisher
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- 中村哲郎
- Publication Year
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- 1988.3
- Book size
- 26cm
- Other Title
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- シガイコウ レイキ オ リヨウシタ シリコン キバン エノ エピタキシャル ゼツエンマク ケイセイ ノ キソ ケンキュウ
- 昭和62年度科学研究費補助金(一般研究B)研究成果報告書
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Notes
研究課題番号: 61460124
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Details 詳細情報について
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- CRID
- 1130282272262523776
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- NII Book ID
- BA64063900
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- Text Lang
- en
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- Country Code
- ja
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- Title Language Code
- ja
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- Place of Publication
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- [豊橋]
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- Classification
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- NDC8: 549.8
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- Data Source
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- CiNii Books