紫外光励起を利用したシリコン基板へのエピタキシャル絶縁膜形成の基礎研究

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Bibliographic Information

Title
"紫外光励起を利用したシリコン基板へのエピタキシャル絶縁膜形成の基礎研究"
Statement of Responsibility
研究代表者 中村哲郎
Publisher
  • 中村哲郎
Publication Year
  • 1988.3
Book size
26cm
Other Title
  • シガイコウ レイキ オ リヨウシタ シリコン キバン エノ エピタキシャル ゼツエンマク ケイセイ ノ キソ ケンキュウ
  • 昭和62年度科学研究費補助金(一般研究B)研究成果報告書

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Notes

研究課題番号: 61460124

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Details 詳細情報について

  • CRID
    1130282272262523776
  • NII Book ID
    BA64063900
  • Text Lang
    en
  • Country Code
    ja
  • Title Language Code
    ja
  • Place of Publication
    • [豊橋]
  • Classification
  • Data Source
    • CiNii Books
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