最新フォトレジスト材料開発とプロセス最適化技術
書誌事項
- タイトル
- "最新フォトレジスト材料開発とプロセス最適化技術"
- 責任表示
- 河合晃監修
- 出版者
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- シーエムシー出版
- 普及版
- 出版年月
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- 2024.8
- 書籍サイズ
- 26cm
- タイトル別名
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- サイシン フォトレジスト ザイリョウ カイハツ ト プロセス サイテキカ ギジュツ
- Advanced technologies for functional resist materials and process optimization
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注記
2017年刊の普及版
文献: 章末
背に「TL840」とあり
奥付・背・裏表紙に「B1438」とあり
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1130864315061664531
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- NII書誌ID
- BD08208554
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- ISBN
- 9784781317748
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- 本文言語コード
- ja
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- 出版国コード
- ja
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- タイトル言語コード
- ja
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- 出版地
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- 東京
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- データソース種別
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- CiNii Books