Characterization of Phosphorus Pile‐Up at the SiO2 / Si Interface

  • Yoshiyuki Sato
    NTT LSI Laboratories, Atsugi‐shi, Kanagawa, 243‐01, Japan
  • Masaki Watanabe
    NTT Electronics Technology, Atsugi‐shi, Kanagawa, 243‐01, Japan
  • Kazuo Imai
    NTT LSI Laboratories, Atsugi‐shi, Kanagawa, 243‐01, Japan

書誌事項

公開日
1993-09-01
権利情報
  • https://iopscience.iop.org/page/copyright
  • https://iopscience.iop.org/info/page/text-and-data-mining
DOI
  • 10.1149/1.2220885
公開者
The Electrochemical Society

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