High rate etching of 6H–SiC in SF6-based magnetically-enhanced inductively coupled plasmas

DOI Web Site Web Site 被引用文献1件

収録刊行物

Thin Solid Films

Thin Solid Films 447-448 100-104, 2004-01

Elsevier BV

被引用文献 (1)*注記

もっと見る

詳細情報詳細情報について

CRID

1363107369175785472
DOI

10.1016/j.tsf.2003.09.030
ISSN

00406090
Web Site

https://api.elsevier.com/content/article/PII:S0040609003013014?httpAccept=text/xml

https://api.elsevier.com/content/article/PII:S0040609003013014?httpAccept=text/plain
データソース種別
- Crossref

書き出し

問題の指摘

ページトップへ