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- IWAMI Motohiro
- Research Laboratory for Surface Science, Faculty of Science, Okayama University
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- HIRAI Masaaki
- Research Laboratory for Surface Science, Faculty of Science, Okayama University
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- KUSAKA Masahiko
- Research Laboratory for Surface Science, Faculty of Science, Okayama University
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- NAKAMURA Hatsuo
- Osaka Electro-Communication University
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- KAWAI Masao
- Shimazu Co.
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- SOEZIMA Hiroyosi
- Shimazu Co.
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- WATABE Hirokuni
- Matsushita Electric Industrial Co., Ltd.
Bibliographic Information
- Other Title
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- 軟X線分光法とシリコン化合物・薄膜系
- ナンXセン ブンコウホウ ト シリコン カゴウブツ ハクマクケイ
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Abstract
物質に電子を入射させると, 内殻電子の励起によりX線 (光子) が放出されることがある.軟X線分光法とは1~50nm付近の波長領域の分光学で, 固体の場合, 価電子帯の電子状態を調べるのに適している. とくに, 光の放射や吸収を伴う遷移の選択則により, 価電子帯の電子状態を, 波動関数の対称性に分けて明きからかすることが可能である.ここでは, 新しい軟X線分光装置の製作と, シリコン化合物 (遷移金属シリサイドなど) の価電子状態, および, 薄膜接合系についての軟X線分光法による研究から得られる知見を中心に報告する.
Journal
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- Shinku
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Shinku 33 (11), 848-853, 1990
The Vacuum Society of Japan
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Keywords
Details 詳細情報について
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- CRID
- 1390001204065284736
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- NII Article ID
- 130000862924
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- NII Book ID
- AN00119871
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- ISSN
- 18809413
- 05598516
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- NDL BIB ID
- 3688258
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- Text Lang
- ja
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- Data Source
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- JaLC
- NDL
- Crossref
- CiNii Articles
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- Abstract License Flag
- Disallowed