マルチメディア時代における真空装置と薄膜応用　　半導体と真空装置

詳細情報 詳細情報について

• CRID

  1390001204114134400

• NII論文ID

  10002260120

• NII書誌ID

  AN1005202X

• DOI

  10.4139/sfj.48.1043

• ISSN

  18843409

  09151869

• NDL書誌ID

  4334589

• Web Site

  http://id.ndl.go.jp/bib/4334589

  https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I4334589

• 本文言語コード

  ja

• データソース種別

  • JaLC
  • NDL
  • Crossref
  • CiNii Articles